真空镀膜加工主要有真空蒸发、溅射和离子镀膜，它们都是在真空条件下使用，通过蒸馏或溅射等方法在塑料表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这种方式可以获得非常薄的表面光面，同时附着力好快的优点，但成本较高，主要加工在不锈钢金属表面。磁控溅射是涂层技术中突出的成就之一。具有溅射速率高、基片温升低、膜基结合力好、器件性能稳定等特点。如果真空度不够高，晶体会失去光泽，粘接不良。早期真空镀膜靠蒸发体自然散射，粘结效率差，光泽度低。
