光学镀膜加工是一种常见的表面处理工艺，用于改善光学元件的性能。以下是光学镀膜加工的基本工艺流程：

　　1.设定与提供：按照必须 的光电技术属性和激发光谱区域，设定所须的光电技术膜层结构特征。提供好必须 对其进行表层的镀膜治疗的基片或光电技术零件。　　2.清扫：将基片或光电技术零件确定苛刻的清扫处置，保持面还没有积灰、油泥或许多残渣，尽量危害膜层的映照力和光电技术能力。　　3.基片操作：在必然的生态环境必备条件下，比喻机械泵室中，对基片参与预操作，包涵加水、除掉阳极化合物等，以升高膜层的粘着性。

　　4.膜层积累：主要采用机械相积累（PVD）或耐腐蚀气相色谱仪积累（CVD）等办法，在基片表面上积累一层层层磁学仪器膜层素材。等等素材更具区别的映射率和板材厚度，于确保指定的磁学仪器性能方面。　　5.监视器设备与检测：在基性岩环节中需要对膜层宽度、组分和光学元件机械性能指标开始及时监视器设备和检测，保持膜层的效率和机械性能指标具有追求。　　6.从外层保养与封口：在完工膜层积聚后，可以对光学电气元件电气元件开展从外层保养和封口，避免止膜层面临厂家破损或环境决定。　　上文既是磁学玻璃汽车镀膜加工厂制作的差不多加工厂制作工艺 步奏，有对比分析 的磁学玻璃适用和特殊要求可能会出现所对比分析，特定的加工厂制作步奏出现所调准和完善。