光学镀膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较先进的技术,如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜,而且可以应用于塑料制成的基底。
保护膜的光学板材概念,如反射率、吸附和智能机械伤害阈值法,包括依赖性于膜层的显微机构。保护膜板材、的残留物气压表和肌底温暖都很有可能的影响保护膜的显微机构。如若蒸发掉形成沉积的原子团在肌底外观的迁徙率低,则保护膜会具有刺激性细孔。当保护膜暴晒于返潮的的空气时,等细孔渐次被空气所补充。